国产光刻机的研发进程，似乎越发 “扑朔迷离”。
今年六月份有消息传出，国产光刻机龙头上海微电子将在一年内交付用于 28nm 制程生产的 193nm ArF 光刻机。
另外，据方正证券今年发布的相关研报，国家 02 专项光刻机项目二期曾设定，拟于 2020 年 12 月验收由上海微电子设计集成的 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机。
这一技术突破无疑极具重要意义。要知道，此前上海微电子能量产的最先进光刻机，已被卡在 90nm 制程上四年之久。但是，现在时间迈进 12 月中旬，我们却并未看到有关这台光刻机的确凿消息。
这一背景下，中国的 IC 前道用先进光刻机研发之路，究竟走得怎么样了?那台传言中的 ArF 光刻机背后，又有哪些玩家的身影?
芯东西挖掘国产 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机背后的研发故事，发现除了国产光刻机龙头上海微电子，其他 5 家 “低调”的企业亦承担了重要角色。
今年以来，中美贸易摩擦加剧、全球范围内疫情肆虐等种种因素，为国内半导体产业链开启了 “hard”模式。其中，光刻机被 “卡脖子”的问题，既是国产半导体产业的远虑，更是近忧。
芯东西了解到，面向这一难题，包括上海微电子在内的上述六家国产光刻机产业链玩家，正致力于攻关先进光刻机各个部件的技术壁垒。
